CVD 表示化學蒸氣沉淀法,這是在實驗室制造鉆石的另一種方法。這種鉆石是采用人工方法模擬天然鉆石結晶特點生成并制造的鉆石,它的生長需要在真空室內對烴類混合氣體施加適當的壓力和溫度。CVD培育鉆石是在每一個方面上真切意義的鉆石,其化學、物理、原子、光及所有特性與天然鉆石相同。
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什么是化學蒸氣沉淀 (CVD) 鉆石?
CVD 表示化學蒸氣沉淀法,這是在實驗室制造鉆石的另一種方法。這種鉆石是采用人工方法模擬天然鉆石結晶特點生成并制造的鉆石,它的生長需要在真空室內對烴類混合氣體施加適當的壓力和溫度。CVD培育鉆石是在每一個方面上真切意義的鉆石,其化學、物理、原子、光及所有特性與天然鉆石相同。
CVD 鉆石的生長過程
1、將鉆石晶種置于鉆石生長室中。
2、生長室中注入含碳氣體。
3、將生長室加熱至 900-1200°C。
4、微波束讓碳從等離子云中落下,沉積在晶種上。
5、每隔幾天會取出其中鉆石,打磨鉆石頂部表面,移除其上的非鉆石碳元素,然后再放回生長室。每批鉆石可能需要經歷幾次開始/停止循環,整個生長過程需要三到四周
6、取出合成鉆石晶體后,這些晶體就可以進行切磨,制成產品。
詳細說來,HPHT 鉆石是在一個小艙室里生長的,這個小艙室位于可以產生很 高壓力的裝置內。艙室內的碳原料(如石墨)熔解在鐵(Fe)、鎳(Ni)、鈷 (Co) 等元素組成的金屬助溶劑中,從而降低鉆石生長所需的溫度和壓力。然后,碳材料借助助溶劑向溫度較低的鉆石晶種移動,并在其上結晶,形成合成鉆石晶體。結晶過程需要數天至數周時間,以形成一個或多個晶體。
詳細來說,CVD 鉆石是在充滿碳氫混合氣體(如甲烷)的真空室內生長的。能量源(如微波束)分解氣體分子,碳原子向下吸附到溫度更低的扁平鉆石排種盤中。結晶過程需要數周時間,多個晶體同時生長。確切的數量取決于真空室的尺寸和排種盤的數量。這種板狀晶體通常會形成需要切除的黑色石墨粗糙邊緣。它們還會呈現褐色,這種顏色在進行寶石刻面步驟前,可通過熱處理去除。
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